Q.
HAL工法とは何ですか。
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A.
HAL(High Aniso.field Layer)工法とはネオジムマグネットの重希土類成分であるDy(ジスプロシウム)やTb(テルビウム)を大幅に節減しながら磁気特性の向上を可能にしたTDK独自の工法です。
Dy(ジスプロシウム)やTb(テルビウム)は保磁力を向上させる為の重希土類元素の中で高価な元素です。